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胜游(中国) 产品&服务半导体装备物理气相沉积设备 PVD ITO溅射系统

半导体装备 Semiconductor

iTops i233

PVD ITO溅射系统

iTops i233 PVD ITO溅射系统

iTops i233 PVD ITO Sputter System

iTops i233主要用于4/6/8英寸ITO沉积工艺。系统由传输模块、工艺模块、附属设备以及电源柜组成。该设备具有占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，运营成本低等优势。

设备特点

产品应用

晶圆尺寸
2、4、6 英寸
适用材料
铟锡氧化物
适用工艺
ITO 电流扩展层

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